Газды енгізу
Этилсилан - Si2H6 химиялық формуласы бар бейорганикалық қосылыс. Бұл бөлме температурасында және қысымда жағымсыз және тітіркендіргіш иісі бар түссіз, мөлдір және улы газ. Оның химиялық қасиеттері силанға ұқсас, бірақ оның реактивтілігі силанға қарағанда күштірек. Ол силанға қарағанда тұрақсыз және бөлме температурасында силан мен сутегіге баяу ыдырайды. 300-500 ℃ температурада SiH4, SinHm, H2-ге ыдырайды, сонымен қатар жарықта ыдырайды. Негізінен күн батареяларында, фотосезімтал айналмалы түтіктерде, аморфты кремний пленкаларында, эпитаксиалды өсуде, оксидті пленкаларда, нитридті пленкаларда, химиялық булардың тұндыруында және басқа аспектілерде қолданылады.
Негізгі қасиеттер
Этилсилан - түссіз мөлдір сұйықтық, ауада өздігінен тұтанады, тұтану температурасы бөлме температурасынан төмен. Ауамен кездескенде бірден жанып, SiH4 және H2-ге ыдырайды. Жану концентрациясы диапазоны кең, ал концентрациясы 0,2% жоғары болған кезде жану кезінде жалын шығады; Концентрация 0,2% төмен болғанда, ақ SiO2 түзу үшін тотығу реакциясы жүргізіледі. Хлор газындағы жарылғыш жану. Галогендік газдармен жарылғыш әрекеттеңіз, бірақ төмен температурада болса, галогендеуді орташа орындаңыз. SF6-мен байланыста болса, ол жарылып кетеді. Төрт хлорлы көміртек пен хлороформмен қарқынды реакция. Силан мен сутегін алу үшін сілтілік металдармен және сынап қорытпаларымен әрекеттесіп, ыдыратыңыз. Каустикалық калиймен әрекеттесіп, бос H2. Ол таза сумен және қышқылмен әрекеттеспейді, бірақ сілтілермен әрекеттесіп, силикаттар мен сутегі түзеді. Тіпті шыныдан ерітілген сілтінің аз мөлшерде болуы этанның гидролизін тудыруы мүмкін. KH немесе LiCl қоспалары болған жағдайда бөлме температурасында баяу ыдырайды.
Si2H6- → SiH4+(SiH2) x
Этилсилан күкірт көміртегіде, этил спиртінде, бензолда және этил кремний қышқылында ериді. Ол резеңке, сары май, майлау материалдары, қорғасын және т.б. коррозияға ұшыратады, бірақ металдардың көпшілігін тоттандырмайды.
Негізгі қолданулар
1. Күн батареяларында, фотосезімтал айналмалы түтіктерде, аморфты кремний қабықшаларында, эпитаксиалды өсуде, оксидті пленкаларда, нитридті пленкаларда, химиялық булардың тұндыруында және басқа салаларда қолданылады. Күн батареяларын өндіруде аморфты кремний пластинкаларында этилен силанының тұндыру жылдамдығы силанға қарағанда әлдеқайда жылдам, ал температураны 200-300 ℃ төмендетуге болады. Иондық имплантацияда этанды ион көзі ретінде пайдалану жарқырау ықтималдығы жоғары және күшті сәулелік токқа ие, бұл басқа газдарды ион көздері ретінде пайдаланудан айтарлықтай жақсы нәтиже береді.
2. Жартылай өткізгіш технологияда ол эпитаксиалды және диффузиялық процестер үшін, сондай-ақ күн батареяларында және электронды фотосуреттерде қолданылатын фотосезімтал барабандар үшін қолданылады.
